氣體凈化與特種氣體除雜——吸附  多晶硅，灰色金屬光澤，溶于氫氟酸和硝酸的混酸中， 不溶于水、硝酸和鹽酸。高溫熔融狀態(tài)下，具有較大的化學活潑性質(zhì)，能與幾乎任何材料作用，具有半導體性質(zhì)，是極為重要的優(yōu)良半導體材料，但是微量的雜質(zhì)即可大大影響其導電性。
 

　　電子工業(yè)中廣泛應用于制造各類產(chǎn)品，由干燥硅粉與干燥氯化氫氣體在一定條件下氯化，再經(jīng)冷凝、精餾、還原而得。
 

　　多晶硅是生產(chǎn)單晶硅的直接原料，是當代人工智能、自動控制、信息處理、光電轉(zhuǎn)換等半導體器件的電子信息基礎(chǔ)材料，被稱為“微電子大廈的基石”。
 

　　而在生產(chǎn)過程中由于氣體雜質(zhì)的存在，對半導體材料的危害也是很大的，為了得到高質(zhì)量的多晶硅和單晶硅，因此在氣體前必須將氣體進行凈化。凈化的方法有很多，在氣體凈化技術(shù)中，經(jīng)常綜合運用以下幾個方面的知識；
 

　　用吸濕性液體干燥劑(液堿、硫酸等)進行吸收；
 

　　用固體干燥劑：KOH、CuSO4、CaCl2過氯酸鎂等進行化學吸收，用硅膠、分子篩等進行物理吸收；
 

　　用催化劑進行化學催化；
 

　　用冷媒或冷劑(液態(tài)氮等)進行低溫冷凍；
 

　　其中吸附劑的種類有很多，目前我國半導體工業(yè)中廣泛應用的還是硅膠分子篩酯類的吸附劑。
 

　　化學催化反應是指存在于氣體中的有害雜質(zhì)有時不能靠物理的方法從氣體中去除，而是借助催化劑的作用，使氣體中的雜質(zhì)被吸附在催化劑表面，使雜質(zhì)與氣體中的其他組分相互起化學反應轉(zhuǎn)化為無害的化合物，這猴子那個方法被稱為化學催化。
 

　　海普開發(fā)的氣體凈化與特種氣體除雜——吸附工藝，采用自主研發(fā)的吸附催化產(chǎn)品，可針對性解決半導體行業(yè)中的氣體凈化與特種氣體除雜。